图8：设备的良率缺陷会在数百道生产工序中巨幅累积放大7b5
发表于：2023-03-13 13:00:25
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核心观点 事件：3月8日，荷兰政府表示计划对半导体技术出口实施新的限制。 中国10nm及更成熟制程光刻机的进口并不受本次限制影响。ASML在3月8日的最新声明中指出，最新出口限制局限于7nm及以下制程，侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，主要为DUV光刻机TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i两款产品，而未被禁运的NXT1980i
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